UNAM'daki Odaklanmış İyon Demet Litografyası odası:

Bu sistemin ana malzemeleri aşağıdaki resimde görülüyor. Sırasıyla açıklayalım.
İyon tabancası: 10 keV enerjiye sahip hızlandırılmış iyon üretir. Bu iyonlar hedefe elektrostatik merceklerle odaklanır. İçerisinde sıvı metal vardır, genelde Ga katyonudur, çünkü oda sıcaklığında sıvı haldedir.
Altlık: Üzerine direnen malzeme olan bir cisim. Direnen malzeme ne? Hemen açıklayalım: yoğun iyon demetine maruz kaldığı zaman fiziksel veya kimyasal özellikleri değişen malzeme.
Yöntemin İngilizcesi: Focused Ion Beam Lithography

Odaklanmış İyon Demet litografyasının avantajları:
1- Bilgisayar kontrollü olması
2- Maskeye gerek yok
3- 1 µm'den küçük desen üretilebilir
4- Direnen malzemeler, elektron demetindeki direnen malzemelerinden hassas.
5- Kırılma etkileri minimum seviyededir.
6- Yüksek çözünürlük küçük boyutlarda
7- Hızlı prototipleme için uygun olması.
Dezavantajları:
1- Güvenilir iyon kaynağı lazım
2- Eksi iyon kullanılırsa, şişmeler oluşur, bu da çözünürlüğü etkiler.
3- Elektron demet sistemine göre pahalı
4- Üretim hızı. Sebep ise iyon hızının elektron hızından düşük olması.
:yat):yat):yat):yat)
:yat):yat):yat):yat)
:yat):yat):yat):yat)
:yat):yat):yat):yat)











